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熒光光譜儀的靈敏度、精度及分析速度是至關(guān)重要
熒光光譜儀的分析方法是一個相對分析方法，任何制樣過程和步驟必須有非常好的重復(fù)操作可能性，所以用于制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品必須經(jīng)過同樣的制樣處理過程。X射線熒光實際上又是一個表面分析方法，激發(fā)只發(fā)生在試樣的淺表面，必須注意分析面相對于整個樣品是否有代表性。此外，熒光光譜儀樣品的平均粒度和粒度分布是否有變化，樣品中是否存在不均勻的多孔狀態(tài)等。樣品制備過程由于經(jīng)過多步驟操作，還必須防止樣品的損失和沾污。
在工業(yè)過程控制分析中，熒光光譜儀的靈敏度、精度及分析速度是至關(guān)重要的。SPECTROiQII在這一領(lǐng)域已建立了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)。的SPECTROiQII在此基礎(chǔ)上進一步改進了技術(shù)，提高了操作簡便性和可靠性。
在許多情況下，熒光光譜儀在測定主要成分的精度及重要痕量元素的靈敏度可以同價格昂貴的波長色散型X熒光光譜儀相媲美。以往只能用波長色散型X熒光光譜儀完成的分析任務(wù)，現(xiàn)在通過SPECTRO*的偏振能量色散型儀器即可地完成。
X射線是一種電磁輻射，其波長介于紫外線和Y射線之間。熒光光譜儀的波長沒有一個嚴格界限，一般來說是指波長為0.001-50nm的電磁輻射。對分析化學(xué)家來說，感興趣的波段是0.01-24nm，0.01nm左右是超鈾元素的k系譜線。1923年赫維西（Hevesy.G.Von）提出了應(yīng)用X射線熒光光譜進行定量分析，但由于受到當(dāng)時探測技術(shù)水平的限制該法并未得到實際應(yīng)用，直到20世紀(jì)40年代后期，隨著X射線管、分光技術(shù)和半導(dǎo)體探測器技術(shù)的改進，X熒光分析才開始進入蓬勃發(fā)展的時期，成為一種極為重要分析手段。